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（技術(shù)中心-管式氣氛爐）
利用管式氣氛爐快速升溫制備硒化鋅納米晶薄膜的方法，取單質(zhì)硒粉和單質(zhì)鋅粉按１∶１的摩爾比混合并轉(zhuǎn)入高能球磨罐中，在氮?dú)饣驓鍤獗Ｗo(hù)下球磨，使ＺｎＳｅ粉末的尺度為５～２０納米；將ＺｎＳｅ納米粉放入石英舟一端的凹槽中，硅片或石英基片放在石英舟的另一側(cè)；再將石英舟置于長(zhǎng)度大于管式爐爐體長(zhǎng)度１．５倍以上的石英管中，開(kāi)啟抽氣機(jī)排氧并充入氬氣，重復(fù)三次；將石英管冷端推入管式氣氛爐中，要求５分鐘內(nèi)將石英管內(nèi)放置的ＺｎＳｅ納米粉末原料升溫到８００℃～１０００℃，使硅片或石英基片的溫度為１６０℃－２４０℃即可在硅片或石英片上得到硒化鋅納米晶薄膜。本發(fā)明真空度要求低，薄膜厚度和薄膜納米晶尺度均可通過(guò)工藝條件控制。
（技術(shù)中心-氣氛爐）
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