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納米粒徑炭黑研磨分散機

參考價 109800
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱上海依肯機械設(shè)備有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號CMSD2000
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時間2025/4/11 13:22:12
  • 訪問次數(shù)714
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食品機械設(shè)備網(wǎng)采購部電話:13777369734

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上海依肯機械設(shè)備有限公司是一家中德合作經(jīng)營企業(yè),依肯通過引進*和科學(xué)管理模式,形成了完整的研發(fā)、制造及營銷體系。她保持與的混合乳化技術(shù)同步,同時擁有XX的技術(shù)研究人才和生產(chǎn)能力,為中國及提供多元化的產(chǎn)品及技術(shù)服務(wù)。她已經(jīng)發(fā)展成為中國流體高剪切混合設(shè)備行業(yè)的lin先者。

公司主要研發(fā),生產(chǎn)制造,銷售流體領(lǐng)域的幾大系列:一高剪切分散乳化機,二 均質(zhì)機,三 粉液混合設(shè)備,四 膠體磨,五 攪拌機,六干燥機等系列。為混合、分散、均質(zhì)、懸浮、乳化、濕磨、粉液混合等領(lǐng)域提供高品質(zhì)的解決方案,設(shè)備加工材料細度可達微納米級別。依肯公司作為國內(nèi)的供應(yīng)商,憑借著對廣大客戶要求的深入了解,為客戶解決流程工藝中的難題,混合技術(shù),乳化均質(zhì),粉液混合技術(shù)和合理的配置方案,確保設(shè)備運行穩(wěn)定的可靠性。她已廣泛應(yīng)用于石油、石化、化工、食品、生物制藥、核工業(yè)、精細化工等領(lǐng)域,并成功為國家重點工程配套,部分產(chǎn)品返銷國外,取得了顯著的經(jīng)濟效益和社會效益。





乳化機,分散機,乳化機,混合機,膠體磨
電機功率 4kw 類型 其他
篩網(wǎng)材料 其他 生產(chǎn)能力 3000t/h
適用對象 其他 外形尺寸 450*350*750mm
物料運行軌跡 其他 應(yīng)用領(lǐng)域 化工
用途 工業(yè)用 重量 45kg
炭黑研磨分散機,提高炭黑分散性的方法能夠?qū)崿F(xiàn)自動控制,且操作簡單方便,機器運行很穩(wěn)定。機器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到全面的清洗。
納米粒徑炭黑研磨分散機 產(chǎn)品信息

提高炭黑分散性的方法,提高炭黑分散性設(shè)備,IKN炭黑研磨分散機,管線式研磨分散機,增強炭黑應(yīng)用功能設(shè)備,德國研磨分散機,循環(huán)式研磨分散機,中試型研磨分散機,新材料研磨分散機


IKN研磨分散機能夠?qū)崿F(xiàn)自動控制,且操作簡單方便,機器運行很穩(wěn)定。機器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到全面的清洗。


炭黑作為一種典型的納米材料,原生粒子尺寸小(通常<100nm)、表面能高,極易聚集成較大的顆粒,很難穩(wěn)定分散于不同體系中,限制了炭黑性能的充分發(fā)揮,影響到下游制品的質(zhì)量和性能,成為炭黑應(yīng)用的一大瓶頸。炭黑的分散主要受制于三個因素:炭黑本身的特性、載體或分散介質(zhì)的類型、分散工藝和分散設(shè)備。


一種提高炭黑分散性的方法,其特征在于包括以下步驟:(1)在炭黑中加入結(jié)構(gòu)控制劑;(2)將炭黑和結(jié)構(gòu)控制劑均勻混合;(3)將混合料進行微納米分散;(4)通過分級裝置控制分散細度級別;(5)收集分級出來的炭黑即得高分散性炭黑。


炭黑的分散好不好重要的還是取決于分散劑和分散設(shè)備,大家都知道,炭黑的原生粒徑都是<100nm,則遇到液體之后就會形成團聚力,要想很好的將團聚力打開必須使用超高轉(zhuǎn)速及剪切力的設(shè)備,依肯機械研磨分散機即可實現(xiàn)這一步,炭黑結(jié)構(gòu)控制劑為納米碳基材料。通過引入異質(zhì)材料,一方面控制炭黑的結(jié)構(gòu)(領(lǐng)苯二甲酸二丁酯吸收值),改變炭黑的粒徑分布,另一方面降低炭黑與炭黑粒子之間的接觸面積,打破單一炭黑微粒之間的附聚平衡,降低炭黑顆粒之間的團聚力,提高炭黑的分散性能。


上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,是目前國產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)


線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)  
              g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的


CMSD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表

型號

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMSD2000/4

300

14000

41

4

DN25/DN15

CMSD2000/5

1000

10500

41

11

DN40/DN32

CMSD2000/10

4000

7200

41

22

DN80/DN65

CMSD2000/20

10000

4900

41

45

DN80/DN65

CMSD2000/30

20000

2850

41

90

DN150/DN125

CMSD2000/50

60000

1100

41

160

DN200/DN150


流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%


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